科創(chuàng)芯片ETF國泰（589100）漲超3.1%，AI驅(qū)動先進制程擴產(chǎn)預期強化。

華金證券指出，AI發(fā)展推動先進工藝產(chǎn)能（7nm及以下）持續(xù)擴張，ArFi/EUV光刻機需求增加。全球半導體制造行業(yè)預計從2024年底到2028年產(chǎn)能將以7%的復合年增長率增長，達到每月1110萬片晶圓，其中7nm及以下產(chǎn)能預計從2024年每月85萬片增長至2028年的140萬片，復合年增長率達14%。193nm浸沒式光刻結合多重曝光技術可延長商業(yè)周期至7nm節(jié)點。臺積電N7及N7P采用DUV（ArFi）光刻機實現(xiàn)57nm柵極間距，而N7+在關鍵層引入EUV光刻機。長期來看，高端光刻機突破是先進制程量產(chǎn)的基石，分辨率取決于光源波長、數(shù)值孔徑和光刻工藝因子，浸沒式光刻和計算光刻技術對提升分辨率至關重要。

科創(chuàng)芯片ETF國泰（589100）跟蹤的是科創(chuàng)芯片指數(shù)（000685），單日漲跌幅可達20%。該指數(shù)從科創(chuàng)板市場中選取涉及半導體材料、設備、芯片設計、制造、封裝與測試等領域的上市公司證券作為指數(shù)樣本，以反映芯片產(chǎn)業(yè)鏈相關上市公司證券的整體表現(xiàn)。該指數(shù)注重技術創(chuàng)新和成長性，覆蓋了芯片產(chǎn)業(yè)的上中下游多個環(huán)節(jié)，具有較強的科技屬性和行業(yè)代表性。

注：如提及個股僅供參考，不代表投資建議。指數(shù)/基金短期漲跌幅及歷史表現(xiàn)僅供分析參考，不預示未來表現(xiàn)。市場觀點隨市場環(huán)境變化而變動，不構成任何投資建議或承諾。文中提及指數(shù)僅供參考，不構成任何投資建議，也不構成對基金業(yè)績的預測和保證。如需購買相關基金產(chǎn)品，請選擇與風險等級相匹配的產(chǎn)品?；鹩酗L險，投資需謹慎。